掺硼金刚石膜（BDD）具备很是宽的电化学电势窗口和较小的背景电流，加上金刚石杰出的化学惰性（常温下不与任何酸碱介质反映），不易结垢，是以是电化学电极资料的不二之选。BDD电极已普遍利用于污水处置、电解和电化学分解，和基于电化学道理的探测器、传感器。

产物利用：

附着在金属电极上的掺硼金刚石涂层存在以下错误谬误：不能保障消弭缺点，特别是在角部和边缘处，存在粉碎气密密封的能够，金属衬底轻易被侵蚀。

增大的应力/失配应力使金刚石涂层存在破坏零落的能够。我司接纳BDD自支持膜，能够处理以上题目。

产物参数：

自支持BDD的厚度规模为200~1000 μm，此厚度能够离开基材自力利用，防止了膜基分手引发的BDD电极生效；

BDD电极的电阻率最大为1016 Ω•cm，最小可达9×10³ Ω•cm；

机器机能良好，化学性子不变，有耐侵蚀机能，能够持久利用在各种检测情况；

合用性广，可按照电极利用的手艺请求矫捷调剂其物理化学机能目标(如电阻率、厚度等)。